采用一种简单且易于扩展的“原位智能生长”方法在多孔氧化铝基底上制备超薄（<500 nm）无缺陷的叶片状的UiO-66-NH2膜（图a-c）。通过调整金属离子和配体的浓度、调节剂的数量和类型、反应持续时间等反应参数，可调节UiO-66-NH2叶片密度以及MOF层厚度。UiO-66-NH2叶片之间的纳米级空隙可保证离子最大程度进入，同时UiO-66-NH2固有的亚纳米级尺寸的孔使得膜能够基于阳离子的水合直径进行选择性分离（图d）。最终，制备的叶片状UiO-66-NH2膜显示出优异的单多价阳离子选择性（P(Na+/Mg2+)> 200和P(Li+/Mg2+)> 60）。（ChemSusChem, 2019, 12, 2593.）